Rigaku Corporation, partenaire mondial dans le domaine des systèmes d’analyse par rayons X et société du groupe Rigaku Holdings Corporation (siège social : Akishima, Tokyo ; directeur général : Jun Kawakami ; ci-après « Rigaku ») a lancé la commercialisation du XHEMIS (prononcé « ZEM-mis ») TX-3000, un système de fluorescence X à réflexion totale (TXRF) qui prend en charge l’analyse des traces de contamination à la surface des plaquettes dans la fabrication des semi-conducteurs.
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Measurement result of surface contaminant distribution
Rigaku protège la qualité grâce à la technologie TXRF, un domaine dans lequel elle détient une part de marché écrasante
L’analyse des traces de contaminants à la surface des plaquettes est essentielle dans la fabrication des semi-conducteurs. À mesure que les étapes de production deviennent de plus en plus détaillées et que les normes de qualité se durcissent, ce processus joue un rôle important dans la réduction des taux de défauts. Les chaînes de fabrication qui comportent des centaines d’étapes nécessitent en outre une analyse précise des traces de contaminants à la surface des plaquettes afin de maintenir un fonctionnement stable et la fiabilité de la qualité des produits. Avec la TXRF, une approche représentative à cette fin, Rigaku a imposé sa technologie comme une norme mondiale efficace. La société est depuis longtemps un moteur de l’amélioration des normes de qualité dans l’industrie.
Le dernier modèle de Rigaku, le XHEMIS TX-3000, améliore les fonctionnalités existantes pour offrir un bond en avant en termes de précision de mesure, de maniabilité et de productivité.
Une vitesse jusqu’à 6 fois supérieure permet d’effectuer en 10 minutes des tâches de mesure qui prenaient auparavant une heure
Le XHEMIS TX-3000 atteint des vitesses de traitement jusqu’à 6 fois supérieures à celles des systèmes précédents de Rigaku. Tout d’abord, la vitesse de mesure est triplée grâce à la combinaison d’un réseau optique nouvellement développé et d’un détecteur multi-éléments innovant. Ensuite, ce système combiné est associé à une technologie de prévision de spectre basée sur l’IA qui permet de doubler la vitesse de mesure sans sacrifier la précision. L’innovation technique de cette configuration en deux étapes contribue à améliorer la productivité et la stabilité des processus sur les sites de fabrication de semi-conducteurs. Avec notre modèle précédent, les mesures qui prenaient généralement une heure sont désormais effectuées en seulement 10 minutes.
La nouvelle conception du détecteur permet l’analyse d’éléments plus légers
Le XHEMIS TX-3000 utilise une source de rayons X pouvant être commutée entre trois longueurs d’onde, ce qui permet d’analyser des éléments plus légers tels que le sodium, le magnésium et l’aluminium, difficiles à détecter à l’aide de systèmes d’analyse par rayons X fluorescents. De cette manière, la distribution superficielle des contaminants peut être mesurée pour pratiquement tous les éléments sans destruction de l’échantillon.
Le XHEMIS TX-3000 combine en outre un monochromateur nouvellement développé capable d’irradier des rayons X avec un détecteur multi-éléments qui peut mesurer simultanément trois emplacements sur la surface de la plaquette. En combinant ces caractéristiques, le XHEMIS TX-3000 multiplie par trois la vitesse de mesure par rapport aux systèmes précédents.
L’IA garantit une haute précision et des applications étendues
L’un des problèmes des systèmes d’analyse par rayons X fluorescents est que la réduction du temps de mesure tend à dégrader la précision des mesures. Pour remédier à ce problème, le XHEMIS TX-3000 utilise un logiciel de prévision du spectre entraîné à partir d’une grande quantité de données d’analyse. De cette manière, la précision est maintenue même lorsque le temps de mesure est réduit de moitié.
De plus, une nouvelle fonctionnalité réduit les signaux de fond inutiles, élargissant ainsi la gamme d’applications à une grande variété de matériaux qui ne se prêtaient pas auparavant à la mesure des traces de contamination, tels que les métaux barrières (revêtement protecteur pour le câblage), les films à haute constante diélectrique et les semi-conducteurs composés.
Kiyoshi Ogata, vice-président exécutif principal, déclare que :
Rigaku prévoit un chiffre d’affaires d’environ 5 milliards de yens pour les produits TXRF conventionnels en 2025. Avec la mise sur le marché de ce système haut de gamme, Rigaku s’attend à ce que les principaux fabricants de semi-conducteurs l’adoptent de plus en plus. La société prévoit que ce segment de produits connaîtra une croissance à deux chiffres pendant plusieurs années consécutives, constituant une plateforme stable qui soutiendra la croissance durable du marché des semi-conducteurs.
Détails du système
https://rigaku.com/products/semiconductor-metrology/txrf/xhemis-tx-3000?setLang=english
À PROPOS DU GROUPE RIGAKU
Depuis sa création en 1951, le groupe Rigaku se consacre au bénéfice de la société avec des technologies de pointe, notamment dans ses domaines clés que sont les rayons X et l'analyse thermique. Avec une présence sur le marché dans plus de 90 pays et environ 2 000 employés issus de neuf opérations mondiales, Rigaku est un partenaire de solution dans les instituts d'analyse de l'industrie et de la recherche. Notre ratio de ventes à l'international a atteint approximativement 70 % tout en maintenant une part de marché exceptionnellement élevée au Japon. Au côté de nos clients, nous continuons à nous développer et à grandir. Avec des applications couvrant les semiconducteurs, les matériaux électroniques, les batteries, l’environnement, les ressources, l’énergie, les sciences de la vie et d’autres domaines de haute technologie, les innovations de Rigaku ont vocation à « améliorer notre monde en promouvant de nouvelles perspectives ».
Pour de plus amples renseignements, veuillez visiter rigaku-holdings.com/english
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