Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO : 7912) a annoncé aujourd’hui avoir participé au tour de financement de Rapidus Corporation en tant qu’investisseur. Cette initiative de financement stratégique soutient le projet de Rapidus visant à passer progressivement de la phase actuelle de R&D à la production en série de semi-conducteurs logiques de 2 nm (10⁻⁹ mètres) d’ici 2027.
Grâce à cette initiative, DNP fera progresser le développement et la production en série de photomasques pour lithographie EUV et soutiendra Rapidus dans la mise en place d’un système de production en série de semi-conducteurs de 2 nm et de nouvelle génération.
Contexte
Ces dernières années, l’augmentation de la consommation d’énergie, parallèlement à la croissance de la production de données, est devenue un défi, stimulant la demande en semi-conducteurs de nouvelle génération capables d’améliorer les performances des appareils et de réduire la consommation d’énergie.
Les semi-conducteurs de nouvelle génération fabriqués à l’aide de la lithographie EUV permettent de former des motifs plus fins sur les plaquettes de silicium par rapport aux technologies actuellement disponibles. Cela renforce les attentes quant à la réalisation de semi-conducteurs plus performants et moins gourmands en énergie.
Dans ce contexte, en 2024, DNP a été sélectionnée comme sous-traitant de Rapidus dans le cadre du projet de R&D « Amélioration des infrastructures des systèmes d’information et de communication post-5G », dirigé par l’Organisation pour le développement des nouvelles énergies et des technologies industrielles (NEDO). Dans le cadre de ce projet, DNP a fait progresser le développement de processus de fabrication de photomasques de lithographie EUV de génération 2 nm.
Dans la perspective de l’objectif de Rapidus de parvenir à la production en série de semi-conducteurs logiques de génération 2 nm en 2027, DNP vise à réaliser rapidement une production à haut rendement et à court délai de photomasques pour lithographie EUV de génération 2 nm. Notre investissement renforcera encore davantage le partenariat entre nos deux entreprises, qui s’est développé jusqu’à présent.
Plans futurs
DNP considère les photomasques lithographiques EUV comme un moteur de croissance clé de son activité liée aux semi-conducteurs. Nous continuerons à investir de manière proactive tout en faisant progresser le développement technologique en vue d’une génération encore plus fine de 1,4 nm et au-delà. Grâce à ces efforts, DNP contribuera à la croissance de l’industrie japonaise des semi-conducteurs.
DNP a été créé en 1876 et est devenu une entreprise mondiale de premier plan qui tire parti de solutions d’impression pour créer de nouvelles opportunités commerciales tout en protégeant l’environnement et en créant un monde plus dynamique pour tous. Nous capitalisons sur nos compétences de base en matière de technologie de microfabrication et de revêtement de précision pour fournir des produits destinés aux marchés des écrans, des appareils électroniques et des films optiques.
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